カテゴリー
- 真空バルブ（ゲートバルブ、ベンドロールバルブ）
- オーリング
- シール／フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ（リニアモータ）
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- サセプタ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリー
- 薬液用ポンプ
- テフロン（半導体グレード）
- SASU（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- 防塵衣
- エンドポイントモニタ
- ケーブル／光ファイバ
- 真空バルブ
- オーリング
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- ステージ（リニアモータ）
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対／パイロメータ
- センサ（温度、湿度、圧力、流量など）
- 各種保護材料（消耗材料）
- ヒータ（蒸着装置向け）
- サセプタ（半導体にも追加）
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリ／ディスペンサ
- ノズル（スプレーノズル、スリットノズルなどを含む）
- インクジェットヘッド（ノズル）
- 薬液用ポンプ
- スペーサ供給ユニット
- コロナガン
- テフロン（半導体グレード）
- SUS（半導体グレード）
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC（国内供給）
- 制御用パソコン（国内）
- モータ／サーボモータ
- RF電源／その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- レーザ光源
- 赤外線検出器
- シリコン
- 化合物半導体
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- g・i線レジスト／現像液
- KrFレジスト／現像液
- ArFレジスト／現像液
- AｒF液浸レジスト／現像液
- EUVレジスト／現像液
- ターゲット材
- CVD・ALD用成膜材料(High-k材料/low-k材料/その他）
- クリーニングガス
- めっき材料
- コーティング材料
- イオンドーピングガス
- 厚膜・その他レジスト
- エッチング液
- エッチングガス
- スラリー
- パッド
- パッドコンディショナ
- 洗浄液
- 超純水・機能水
- サブストレート（パッケージ基板）／インターポーザ
- TAB・COFテープ 接着剤 接着テープ
- 接着剤 接着テープ
- アンダーフィル
- ボンディングワイヤ
- リードフレーム
- はんだボール
- 封止樹脂
- セラミックパッケージ
- フリップチップ用エポキシ樹脂封止材
- バックグラインディングプロセス用テープ/ウエハレベルCSP用裏面保護フィルム
- ダイシング／ダイボンディング用フィルム
- その他フィルム
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- ガラス基板（液晶）
- ガラス基板（OLED用）
- Crガス、薬液、Si
- Cr、ITO
- カラーフィルタ用色材（カラーレジスト/顔料）、インクジェット用インク
- フォトレジスト、現像液
- 配向膜材料（SiO2）：CVDガス材料、ポリイミド（樹脂）
- 液晶材料
- スペーサ材料（シリコン球）
- シール（封止）材（接着剤）／メインシール材／仮接着剤
- 液晶注入口封止材（紫外線硬化樹脂材料）
- 偏光フィルム
- 基板（仮配置基板）
- ポリイミド樹脂
- 正孔注入層材（有機膜）
- 正孔輸送層材（有機膜）
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 電子注入層材料（有機膜、金属化合物薄膜
- 高分子有機EL材料
- 有機EL材料（蒸着用）
- 蒸着材料
シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置
ワイヤーソー後洗浄・ラップ後洗浄・アルカリエッチング洗浄・熱処理前洗浄・熱処理後洗浄・研磨後洗浄・FINAL洗浄に対応します。
■高いプロセス性能
シンプルな処理槽構造で最適なプロセスを実現します。
■ハイスループット
槽間搬送は最短距離を最短時間にて搬送させる制御システム対応
■メンテナンス性の向上
メンテナンス性を考慮した部品配置
■装置設計
豊富な実験データに基づくプロセス最適化に向けた設計が可能
■豊富な実績
ニーズに合わせた最適なカスタム装置をご提供致します。
基本情報
■概要
・ラップ後洗浄装置：ラッピング砥粒除去 (アルカリ+界面を主にした洗浄です) 。
・アルカリエッチング洗浄装置：グラインディング後の加工歪を除去することを目的とした洗浄装置です。
・熱処理前洗浄装置：RCA洗浄を基本としますが、ユーザーのライン構成により異なります。
・熱処理後洗浄装置：RCA洗浄を基本としますが、ユーザーのライン構成により異なります。
・研磨後洗浄装置：RCA洗浄が基本となります。 (DHF・SC-1・SC-2・O₃処理)
・FINAL洗浄：RCA洗浄が基本となります。 (DHF・SC-1・SC-2・O₃処理)
| 価格帯 | 価格相談 |
|---|---|
| 納期 | 納期相談 |
カタログ
取扱企業
PHT株式会社
業種：産業用機械 所在地：東京都 北区赤羽2丁目 69番2号
半導体搬送システムや半導体洗浄装置などの専門メーカー
PHT株式会社は半導体搬送システム事業、半導体洗浄装置事業を行う企業です。
特徴
PHTは半導体業界の中でウェーハ自動剥離装置（剥離洗浄機）のニッチトップ企業として世界に活躍いたします。
PHTはこれまでシリコンウェーハの搬送やレーザ加工技術を活用して次世代SiC（炭化ケイ素）やGaN（窒化ガリウム）材料をはじめ、化合物半導体向け搬送及び洗浄ソリューション（ロボット・搬送「搬送装置あるいは移載装置、EFEM、SORTER」・自動剥離洗浄装置・洗浄装置）を提案し、特にパワー半導体市場へ積極的にアプローチをしております。当社は、省エネ向け（電気自動車、電力制御）の半導体製造装置へ総合ソリューションの提供体制を創出しています。
シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置 へのお問い合わせ
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シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置
