抵抗の製品一覧
フラッシュランプアニールによるエピタキシャルSi:P 層の再活性化
グローバルネット株式会社
株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ、植野 雄守
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次世代配線材料としてのRu 薄膜の特性評価と密着性改善
グローバルネット株式会社
慶大理工、林 凌佑
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高発光強度FLA を用いたMo の低抵抗化
【この成果は、国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」（JPNP20017）の助成事業の結果得られたものである】
グローバルネット株式会社
株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ、吉田侃生
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n-GaN のICP-RIE 加工面に対する低損傷PEC エッチングとその電気化学的評価
グローバルネット株式会社
北大量集センター、嶋﨑 喬大
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超伝導量子ビット制御用クライオCMOS における高電圧nMOSFET の低温特性
グローバルネット株式会社
慶大理工、押尾 世文
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無電解めっきによるCoMn 拡散バリア膜形成の検討
グローバルネット株式会社
関西大システム理工、新宮原 正三
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イオン注入されたSi 基板のマイクロ波加熱
グローバルネット株式会社
沖縄高専、藤井 知
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実験室系HAXPES を用いた電圧印加オペランド測定の
MOS 構造における不純物濃度依存性の解析
グローバルネット株式会社
明治大理工、箕輪 卓哉
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拡張伝送線モデル(TLM)法を⽤いた熱電半導体の接触抵抗の精密測定
グローバルネット株式会社
京都工芸繊維大、桂 章皓
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新電解技術による層間絶縁膜上へのRu 結晶核の形成
グローバルネット株式会社
KMP研究所、岩津 春生
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