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【11/26開催セミナー】酸化ガリウム(Ga2O3)・ルチル型GeO2の 結晶成長・薄膜形成とデバイス応用

サイエンス＆テクノロジー(株)株式会社

ミストCVD法とGa2O3・ルチル型GeO2の結晶多形制御、論文や特許調査から酸化ガリウムやルチル型GeO2に関連する研究開発動向も解説セミナーです。…

【専門書籍】プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた 反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

サイエンス＆テクノロジー(株)株式会社

～「所望の薄膜」を形成するプラズマCVDプロセスの確立に向けて～

半導体CVD装置の市場規模、シェアおよび2025〜2035年の予測

KD Market Insights Private Limited

KD Market Insights は、市場調査レポート「半導体 CVD 装置市場の将来動向と機会分析 ― 2025 年から 2035 年」を発表できることを嬉しく思いま…

MOCVD GaAsエピタキシャルウエハの市場規模、シェア、成長、メーカー 2035年

KD Market Insights Private Limited

この調査レポートはMOCVD GaAsエピタキシャルウェーハ市場の調査報告書です。この調査レポートは、MOCVD GaAs Epitaxial Wafer市場の2025年から2…

LR/HR/UR シリーズ

株式会社アルバック

ドライ真空ポンプLR/HR/UR シリーズは、独自の高温均熱化技術により圧縮熱の有効利用でCVD、エッチング等のハードプロセスでの高耐久性を実現し…

CC-200/400

株式会社アルバック

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

CME-200/400

株式会社アルバック

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

CMDシリーズ

株式会社アルバック

CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。

Sonaer社製超音波スプレーノズル

ティックコーポレーション株式会社

ふわっと塗布して塗着効率アップ！

AIX G5+C

Aixtron SE

150/200mm基板(Si/サファイア/SiC)上の先進GaNアプリケーション向け最新プラネタリーリアクターモジュール。生産性と性能を向上させています。