CVDの製品一覧
ヨウ化銅（I）を原料とするCVD 法によるビアホールの選択埋め込み
グローバルネット株式会社
茨城大工、難波 拓?
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CuI を原料とする選択CVD 法によるShallow-trench 上へのCu 成長
グローバルネット株式会社
茨城大院、宮本 裕
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SADP 互換EB-R プロセスによるゲートパターン作製
グローバルネット株式会社
AIST SFRC、尹 成圓
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トレンチフィールドプレートパワーMOSFET における積層ゲート膜化によるTDDB ばらつき改善
グローバルネット株式会社
東芝デバイス＆ストレージ株式会社、石井 大智
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GaN 自立基板上に作製したmist-Al2O3/n-GaN 構造の評価
グローバルネット株式会社
熊本大、谷田部 然治
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MEMS デバイス適用へ向けた極厚膜低ストレスLPCVD Poly-Si 膜の膜厚方向の電気抵抗評価
グローバルネット株式会社
株式会社KOKUSAI ELECTRIC、鋪田 嚴
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酸化抑制プロセスによる高濃度ボディ層を有するSiC(0001)
グローバルネット株式会社
京大、立木 馨大
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低温ハイブリッド接合応用に向けたSiCN 膜の界面特性解析
グローバルネット株式会社
横浜国大、佐藤 亮輔
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100 GHz 帯1 W級GaN パワーアンプMMIC の開発
グローバルネット株式会社
富士通、熊崎 祐介
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ウエハ・基板加工ファウンドリー
グローバルネット株式会社
お客様の細かいご要望にお応えし、多種多様な加工ウエハを提供します！
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