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CMDシリーズ

株式会社アルバック
最終更新日: 2024年05月31日
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CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。

・従来のプロセス温度に比べ、より高温でも動作可能な各ユニットの駆動系、真空搬送ロボットの開発により安定した搬送系を実現しました。
・反応室内部構造、ガス供給システムの改良により　TEOS(SiO2)膜の長期的に安定したレートを得ることができます。
・反応ガス経路の加熱化により除外設備までガス状態で排気でき、配管トラップ未使用にて配管等に副生成物の付着を抑制し、メンテナンス時間の短縮が可能になりました。
・成膜条件など基板個別管理が容易にできます。
・用途：低温P-Si、α-Si TFT

基本情報

①CMD-450BHT
基板サイズ（mm) 400 × 500 × t0.7
チャンバ構成 1）仕込取出室 2室
2）加熱室 1室
3）反応室 4室(アニール室がある場合3室)
4）搬送室 1室（7角形)
5）真空排気系（仕込取出室,反応室）
ロータリー＋メカブ／ドライ＋メカブ
6）基板移載機 オプション
生産量 65秒／枚(当社標準条件：SiN 300nm単層)

②CMD-650HT
基板サイズ（mm) 600 × 720 × t0.7
チャンバ構成 1）仕込取出室 2室
2）加熱室 1室
3）反応室 4室(アニール室がある場合3室)
4）搬送室 1室（7角形)
5）真空排気系（仕込取出室,反応室）
ロータリー＋メカブ／ドライ＋メカブ
6）基板移載機 オプション
生産量 65秒／枚(当社標準条件：SiN 300ｎｍ単層)

③CMD-950
基板サイズ（mm) 730 × 920 × t0.7～0.5
チャンバ構成 1）仕込取出室 2室
2）加熱室 1室
3）反応室 5室(アニール室がある場合4室)
4）搬送室 1室（8角形)
5）真空排気系（仕込取出室,反応室）
ロータリー＋メカブ／ドライ＋メカブ
6）基板移載機 オプション
生産量 75秒／枚(当社標準条件：SiN 300nm単層)

④CMD-1500
基板サイズ（mm) 1300 × 1500 × t0.7?0.4
チャンバ構成 1）仕込取出室 2室
2）加熱室 1室
3）反応室 5室(アニール室がある場合4室)
4）搬送室 1室（7角形)
5）真空排気系（仕込取出室,反応室）
　　ドライ＋メカブ
6）基板移載機 オプション
生産量 加熱室無 : 65秒/枚(当社標準条件：SiN 300nm単層)
加熱室有 : 90秒/枚(当社標準条件：SiN 300nm単層)

⑤CMD-1800
基板サイズ（mm) 1500 × 1800 × t0.7～0.4
チャンバ構成 1）仕込取出室 2室
2）加熱室 1室
3）反応室 5室(アニール室がある場合4室)
4）搬送室 1室（7角形)
5）真空排気系（仕込取出室,反応室）
　　ドライ＋メカブ
6）基板移載機 オプション
生産量 加熱室無 : 65秒/枚(当社標準条件：SiN 300nm単層)
加熱室有 : 90秒/枚(当社標準条件：SiN 300nm単層)

お問い合わせ

取扱企業

株式会社アルバック

業種：繊維  所在地：神奈川県 茅ヶ崎市萩園 2500

イノベーションの創出で産業と科学の発展に貢献し、 豊かな未来を創造する

アルバックグループは、真空装置、コンポーネント、材料、分析機器、カスタマーソリューションなど多様な真空技術を総合的に幅広い業界向けに提供するユニークな企業グループです。
　変革の時代をチャンスととらえ、スピード感をもって様々な分野のニーズにグループ総合力とイノベーションでお応えし、産業と科学の発展に貢献することにより豊かな未来を創造していきたいと考えております。

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