成膜装置の製品一覧

酸化膜、Polly-Si/Si、メタルなどの薄膜を形成する装置

Atomfab(Oxford Instruments社製)

株式会社アルバック

GaNパワーデバイス業界向けプラズマALD 量産対応ソリューション

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Endura Cirrus RT PVD Cobalt

Applied Materials,Inc

Co薄膜形成用PVDシステム

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ENDURA AMBER PVD

Applied Materials,Inc

Cuシード層形成用PVD装置

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AXCELA PVD

Applied Materials,Inc

200mm/300mmウェーハ対応配線用量産スパッタリング装

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ENDURAR AVENIR RF PVD

Applied Materials,Inc

Endura AvenirシステムのRF PVD技術は、High-k/メタルゲートアプリケーションと同様、22nm世代以降のロジックコンタクトのシリサイド化にも適応…

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A412 PLUS/A400

ASM International NV

A412:300mmウェーハ対応高性能縦型拡散/CVD装置 A400:200mm以下ウェーハ対応高性能縦型拡散/CVD装置

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Harrier-L

Eugene Technology

バッチ式高生産性LPCVD/プラズマALDプロセス対応装置

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縦型熱処理装置AVP/RVP/RVP-30

SPPテクノロジーズ株式会社

子会社SPT Microtechnologies USA社製品

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300mmウェーハ対応・ラージバッチ縦型炉 VF-5900

ジェイテクトサーモシステム株式会社

シリコンウェーハ、IGBT、ポリイミド、薄ウェーハの酸化・拡散・CVD熱処理装置。 大容量ストッカーを備え、短タクトタイムを実現したフラッグシ…

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PECVD装置NF-300H

Piotech

新世代の3次元フラッシュメモリチップ(3D NAND)に応用した国産初のプラズマCVD装置

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