成膜装置の製品一覧

酸化膜、Polly-Si/Si、メタルなどの薄膜を形成する装置

EmerALD XP

ASM International NV

HKMG量産に対応したALD装置

詳細を確認する

Dragon XP8

ASM International NV

8チャンバまで搭載可能な量産対応300mmウェーハプラズマCVD

詳細を確認する

VECTOR Family

Lam Research

高生産性と低コストを維持しながらも、幅広いプロセスアプリケーションに対応出来る柔軟性を持ったプラズマCVD装置

詳細を確認する

Reliant Deposition

Lam Research

MEMS、パワーチップ、RFフィルタ、CMOSイメージセンサー等の新分野にも対応したプラズマCVD装置

詳細を確認する

Centura DxZ CVD

Applied Materials,Inc

先進のMEMS、パワーデバイス、パッケージング市場での製造を支援する200mmウェーハ対応プラズマCVD装置

詳細を確認する

真空乾燥システム

大村技研株式会社

真空蒸着装置

詳細を確認する

EAC型

株式会社荏原製作所

本装置は、半導体ウェーハの端面であるベベル部分やその周辺のエッジ部分、またウェーハ裏面部分を研磨することによって欠陥を除去する装置です…

詳細を確認する

LA-3100

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

最先端デバイスの特性改善に大きく貢献するフラッシュランプアニール装置

詳細を確認する

IC7500

キヤノンアネルバ株式会社

主に半導体メモリで使用する金属配線材料の薄膜形成に対応した、クラスター式スパッタリング装置

詳細を確認する

FC7100

キヤノンアネルバ株式会社

当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用のφ300mm対応クラスター式スパッタリング装置

詳細を確認する
全 68 件中 41 ~50 件を表示中
表示件数: