成膜装置の製品一覧
Dragon XP8
ASM International NV
8チャンバまで搭載可能な量産対応300mmウェーハプラズマCVD
VECTOR Family
Lam Research
高生産性と低コストを維持しながらも、幅広いプロセスアプリケーションに対応出来る柔軟性を持ったプラズマCVD装置
Reliant Deposition
MEMS、パワーチップ、RFフィルタ、CMOSイメージセンサー等の新分野にも対応したプラズマCVD装置
Centura DxZ CVD
Applied Materials,Inc
先進のMEMS、パワーデバイス、パッケージング市場での製造を支援する200mmウェーハ対応プラズマCVD装置
真空乾燥システム
大村技研株式会社
真空蒸着装置
LA-3100
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
最先端デバイスの特性改善に大きく貢献するフラッシュランプアニール装置
IC7500
キヤノンアネルバ株式会社
主に半導体メモリで使用する金属配線材料の薄膜形成に対応した、クラスター式スパッタリング装置
FC7100
当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用のφ300mm対応クラスター式スパッタリング装置
Endura Cirrus RT PVD Cobalt
Co薄膜形成用PVDシステム
ENDURA AMBER PVD
Cuシード層形成用PVD装置
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株式会社 SHINCRON
シンクロンは蒸着とスパッタの両方式の進化に技術力で貢献し、真空薄膜の可能性を拡大してきました。今もなお技術革新は続いており、お客様のご…
株式会社 ケープロジェクト
株式会社ケープロジェクトは、1993年に独立系のソフトウェアハウスとして設立し、技術者派遣を中心にクレジット系、金融系、生保系の業務で実績…
Kokusai Electric 株式会社
当社は、株式会社日立国際電気から独立して、新たにKKRファンドのもとで半導体製造装置事業の専門メーカーとして2018年6月1日より「株式会社KO…
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