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Reliant Deposition

Lam Research
最終更新日: 2022年07月08日

MEMS、パワーチップ、RFフィルタ、CMOSイメージセンサー等の新分野にも対応したプラズマCVD装置

半導体産業はMEMS、パワーチップ、RFフィルタ、CMOSイメージセンサー等の新分野では、デバイス毎に多様な製造ニーズがあり、成膜技術においても多種多様な材料への対応が必要な上、個々の要求仕様にも応えるため、高い成膜均一性、膜の内部ストレスの制御、欠陥率の低減などの性能向上を実現、高スループット、低CoOと言った生産の低コスト化を図っている。

基本情報

・マルチステーション連続成膜(Multi-Station Sequential Deposition:MSSD)機能により、多様なプロセスに対応可能な柔軟性を実現
・ウェハ面内に渡って高い均一性を実現
・膜特性の再現性が高く、膜の内部ストレスも安定
・高スループットで高効率なウェハ搬送による高生産性
・Production-proven, low CoO solutions from 150 mm to 300 mm

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取扱企業

Lam Research

業種:産業用機械 4650 Cushing Parkway、フリーモント、CA 94538、アメリカ合衆国 

革新的な製造装置で各社のシリコンロードマップ達成に貢献

デポジション(金属配線薄膜、絶縁膜、薄膜処理)、エッチング(導電性材料、絶縁膜材料、ディープエッチ)、ストリップ&クリーン(表面処理、洗浄)の製品をラインナップしている。微細加工と高い生産を両立させている。

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