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キヤノンアネルバ株式会社
最終更新日: 2021年06月11日

当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用のφ300mm対応クラスター式スパッタリング装置

・超高真空Co-スパッタによる膜組成制御
・極薄膜の高精度な膜厚制御(0.1nm単位)、優れた膜厚均一性 (1σ<1%)
・Under 32nmダマシン・ゲート形成プロセスにも対応可能(PCM-PVDによる高カバレッジ成膜)
・小型カソード採用による低い材料コスト(容易な材料変更)

基本情報

・装置構成:クラスター式
・対応基板サイズ:φ300mm基板

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取扱企業

キヤノンアネルバ株式会社

業種:産業用機械  所在地:神奈川県 川崎市麻生区栗木 2-5-1

真空技術で未来を拓く。超高真空技術のキヤノンアネルバ株式会社

キヤノンアネルバは超高真空技術を用いた高付加価値製品を提供することで、社会の発展に貢献してまいります。

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