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VECTOR Family

Lam Research
最終更新日: 2022年07月08日

高生産性と低コストを維持しながらも、幅広いプロセスアプリケーションに対応出来る柔軟性を持ったプラズマCVD装置

優れた膜品質と高い面内均一性及びウェハ面内均一性を実現
業界最高レベルの生産性と低い保有コスト
成膜とは独立した独自技術のウェハ加熱機能により、高い膜品質を短いプロセス時間で実現
マルチステーション連続成膜(Multi-Station Sequential Deposition : MSSD)機能により様々なプロセスに対応できる柔軟設計
プロセス個別のニーズに応えるよう、最適化されたプラットフォーム:小さい設置面積、高スループット、プリ/ポスト膜トリートメントにも対応できる柔軟なモジュール設計

基本情報

主なアプリケーション
・ハードマスク膜
・反射防止層(Anti-reflective layers:ARL)
・パッシベーション層
・ディフュージョンバリア層
・3D NANDの積層膜
・ダブルパターニングや多重パターニングのコア層
・メタル層間膜

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取扱企業

Lam Research

業種:産業用機械 4650 Cushing Parkway、フリーモント、CA 94538、アメリカ合衆国 

革新的な製造装置で各社のシリコンロードマップ達成に貢献

デポジション(金属配線薄膜、絶縁膜、薄膜処理)、エッチング(導電性材料、絶縁膜材料、ディープエッチ)、ストリップ&クリーン(表面処理、洗浄)の製品をラインナップしている。微細加工と高い生産を両立させている。

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