成膜装置の製品一覧

酸化膜、Polly-Si/Si、メタルなどの薄膜を形成する装置

ENTRON-EX2 W300

株式会社アルバック

マルチチャンバ型スパッタリング装置ENTRONTM-EX2 W300は、多様なプロセスを結び付ける最新のプラットフォームです。

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FlexAL(Oxford Instruments社製)

株式会社アルバック

リモートプラズマ原子層堆積(ALD)プロセスおよび熱ALDの両方を実現

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ENTRON N300

株式会社アルバック

マルチチャンバ型スパッタリング装置

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Atomfab(Oxford Instruments社製)

株式会社アルバック

GaNパワーデバイス業界向けプラズマALD 量産対応ソリューション

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LA-3100

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

最先端デバイスの特性改善に大きく貢献するフラッシュランプアニール装置

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IC7500

キヤノンアネルバ株式会社

主に半導体メモリで使用する金属配線材料の薄膜形成に対応した、クラスター式スパッタリング装置

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FC7100

キヤノンアネルバ株式会社

当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用のφ300mm対応クラスター式スパッタリング装置

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Endura Cirrus RT PVD Cobalt

Applied Materials,Inc

Co薄膜形成用PVDシステム

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ENDURA AMBER PVD

Applied Materials,Inc

Cuシード層形成用PVD装置

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AXCELA PVD

Applied Materials,Inc

200mm/300mmウェーハ対応配線用量産スパッタリング装

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