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NOA ALD

WONIK
最終更新日: 2022年07月15日
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メタル形成用ALD装置

メタルゲートであるTIN成膜を中心に、高い膜質制御性、ステップカバレッジを実現している。

基本情報

TiN,TiM+O2+TiN、W膜形成などに対応

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取扱企業

WONIK

業種：産業用機械 韓国京畿道城南市盆唐区板橋路255番ギル20 

ALD装置の有力メーカ

1991年にGAS CABINETの生産を始め、1996年に半導体前工程の核心装備である原子層堆積装置(ALD)の開発及び量産に成功し、2001年には 半導体前工程のPE-CVD装備を開発して供給している。ALD、PECVD以外にも、LPCVD・Oxidatio/Diffusion等で実績を残している

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