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GEMINI ALD

WONIK
最終更新日: 2022年07月15日

高品質な酸化膜、窒化膜形成に対応したALD装置

エッチング時の高い選択性、平滑な膜表面、混合率の精密制御による膜ストレスの低減などを実現している。

基本情報

主な成膜対象
-ALD Oxide
-SiN _ Ternary oxide

主なアプリケーション
- Hardmask
- Liner
- Gap fill

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取扱企業

WONIK

業種:産業用機械 韓国京畿道城南市盆唐区板橋路255番ギル20 

ALD装置の有力メーカ

1991年にGAS CABINETの生産を始め、1996年に半導体前工程の核心装備である原子層堆積装置(ALD)の開発及び量産に成功し、2001年には 半導体前工程のPE-CVD装備を開発して供給している。ALD、PECVD以外にも、LPCVD・Oxidatio/Diffusion等で実績を残している

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