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LA-3100

最先端デバイスの特性改善に大きく貢献するフラッシュランプアニール装置

1. ミリ秒単位で加熱温度のプロファイルをコントロール
瞬間発光するキセノンフラッシュランプからの数ミリ秒の熱照射によって、ウェーハの表面温度を中高速で昇降温でき、低サーマルバジェットの熱処理が可能となりました。これによって、ソース・ドレインに注入される不純物を高く活性化するのと同時に、濃度プロファイルも精密に制御できます。

2. 低酸素雰囲気
ウェーハを枚葉処理で行うため、厳しく管理された低酸素雰囲気下でのアニール処理が可能です。

3. 加熱照射時のウェーハ温度測定機能搭載
ウェーハ全面にミリ秒単位で制御された熱処理を精密に行いながら、同時に加熱照射時のウェーハ温度を実測定する新機能を搭載。研究・開発段階から温度制御に着目した物理現象の把握・解明を容易に行えるようになります。

基本情報

ウェーハサイズ 300mm

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取扱企業

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

業種:産業用機械  所在地:京都府 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目 天神北町1-1

半導体製造用洗浄装置のトップメーカー

SCREENセミコンダクターソリューションズは、
エッチング、フォトリソグラフィ、画像処理を技術のコアとし、半導体洗浄プロセスにおいて世界のトップメーカとなっている。最先端デバイス向けの高機能・高生産性装置から、200mm以下のさまざまなサイズ・形状の基板に対応できる製品まで、幅広い装置ラインナップをそろえている

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