スパッタリング装置の製品一覧

ターゲット材にArなどのイオンを高速で衝突させることにより、ターゲットからはじき出した原料分子を利用して成膜を行う装置

MLX-3000N

株式会社アルバック

マルチチャンバ型スパッタリング装置MLX-3000Nは、各プロセスニーズにフレキシブルに対応し、ハイコストパフォーマンスを達成した半導体向け成膜…

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EL3400

キヤノンアネルバ株式会社

高密度実装向けスパッタリング装置

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Sigma fxp PVD

SPST Technology

パワーデバイス、TSV,MEMSなどの形成に最適なスパッタリング装置

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IC7500

キヤノンアネルバ株式会社

主に半導体メモリで使用する金属配線材料の薄膜形成に対応した、クラスター式スパッタリング装置

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FC7100

キヤノンアネルバ株式会社

当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用のφ300mm対応クラスター式スパッタリング装置

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Endura Cirrus RT PVD Cobalt

Applied Materials,Inc

Co薄膜形成用PVDシステム

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ENDURA AMBER PVD

Applied Materials,Inc

Cuシード層形成用PVD装置

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AXCELA PVD

Applied Materials,Inc

200mm/300mmウェーハ対応配線用量産スパッタリング装

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ENDURAR AVENIR RF PVD

Applied Materials,Inc

Endura AvenirシステムのRF PVD技術は、High-k/メタルゲートアプリケーションと同様、22nm世代以降のロジックコンタクトのシリサイド化にも適応…

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原子拡散接合タイプ常温接合装置

株式会社ムサシノエンジニアリング

基礎研究の用途から量産まで、幅広い用途での装置設計が可能

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