成膜装置の製品一覧
SCP-SX
株式会社SHINCRON
半導体・電子部品・PIC市場向けスパッタリング装置
ENTRON N300
株式会社アルバック
マルチチャンバ型スパッタリング装置
ENTRON-EX2 W300
マルチチャンバ型スパッタリング装置ENTRONTM-EX2 W300は、多様なプロセスを結び付ける最新のプラットフォームです。
Segul
GaNスパッタリングモジュール
枚葉式複合モジュール型成膜加工装置 uGmni-200, 300
スパッタリング、エッチングなど複数の異なるプロセスモジュールを同一搬送コアに搭載し、柔軟なプロセス対応が可能
FlexAL(Oxford Instruments社製)
リモートプラズマ原子層堆積(ALD)プロセスおよび熱ALDの両方を実現
Atomfab(Oxford Instruments社製)
GaNパワーデバイス業界向けプラズマALD 量産対応ソリューション
PFSシリーズ
SiC プロセス等の高温での処理が必要な工程にマッチングさせた活性化アニール装置です。
CC-200/400
ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。
CME-200/400
枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。
関連用語
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株式会社 SHINCRON
シンクロンは蒸着とスパッタの両方式の進化に技術力で貢献し、真空薄膜の可能性を拡大してきました。今もなお技術革新は続いており、お客様のご…
株式会社 ケープロジェクト
株式会社ケープロジェクトは、1993年に独立系のソフトウェアハウスとして設立し、技術者派遣を中心にクレジット系、金融系、生保系の業務で実績…
株式会社 荏原製作所
産業機械メーカである荏原は、Core Competenceを技術力と捉えています。製品のみならず、生産、品質管理や納入後の改造・メンテナンスまでのあら…
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