成膜装置の製品一覧

酸化膜、Polly-Si/Si、メタルなどの薄膜を形成する装置

最先端デバイスの特性改善に大きく貢献するフラッシュランプアニール装置

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レーザアニール装置。超低サーマルバジェット。サブマイクロ秒オーダーでウェーハ最表面のみのメルトアニールを実現。

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ウルトラシャロージャンクション形成を可能に

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高スループット、高速めっきと優れた面内均一性の両立を実現しためっき装置

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高密度実装向けスパッタリング装置

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CENTURA ISPRINT ALD/CVD SSW
Applied Materials,Inc

金属コンタクト用高精度成膜装置

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Centura DxZ CVD
Applied Materials,Inc

先進のMEMS、パワーデバイス、パッケージング市場での製造を支援する200mmウェーハ対応プラズマCVD装置

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本装置は、半導体ウェーハの端面であるベベル部分やその周辺のエッジ部分、またウェーハ裏面部分を研磨することによって欠陥を除去する装置です…

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主に半導体メモリで使用する金属配線材料の薄膜形成に対応した、クラスター式スパッタリング装置

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当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用のφ300mm対応クラスター式スパッタリング装置

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