成膜装置の製品一覧
ENTRON N300
株式会社アルバック
マルチチャンバ型スパッタリング装置
ENTRON-EX2 W300
マルチチャンバ型スパッタリング装置ENTRONTM-EX2 W300は、多様なプロセスを結び付ける最新のプラットフォームです。
Segul
GaNスパッタリングモジュール
枚葉式複合モジュール型成膜加工装置 uGmni-200, 300
スパッタリング、エッチングなど複数の異なるプロセスモジュールを同一搬送コアに搭載し、柔軟なプロセス対応が可能
FlexAL(Oxford Instruments社製)
リモートプラズマ原子層堆積(ALD)プロセスおよび熱ALDの両方を実現
Atomfab(Oxford Instruments社製)
GaNパワーデバイス業界向けプラズマALD 量産対応ソリューション
PFSシリーズ
SiC プロセス等の高温での処理が必要な工程にマッチングさせた活性化アニール装置です。
CC-200/400
ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。
CME-200/400
枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。
CMDシリーズ
CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。
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産業機械メーカである荏原は、Core Competenceを技術力と捉えています。製品のみならず、生産、品質管理や納入後の改造・メンテナンスまでのあら…
Kokusai Electric 株式会社
当社は、株式会社日立国際電気から独立して、新たにKKRファンドのもとで半導体製造装置事業の専門メーカーとして2018年6月1日より「株式会社KO…
キヤノンアネルバ 株式会社
キヤノンアネルバは超高真空技術を用いた高付加価値製品を提供することで、社会の発展に貢献してまいります。
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