成膜装置の製品一覧

酸化膜、Polly-Si/Si、メタルなどの薄膜を形成する装置

ENTRON N300

株式会社アルバック

マルチチャンバ型スパッタリング装置

詳細を確認する

ENTRON-EX2 W300

株式会社アルバック

マルチチャンバ型スパッタリング装置ENTRONTM-EX2 W300は、多様なプロセスを結び付ける最新のプラットフォームです。

詳細を確認する

Segul

株式会社アルバック

GaNスパッタリングモジュール

詳細を確認する

枚葉式複合モジュール型成膜加工装置 uGmni-200, 300

株式会社アルバック

スパッタリング、エッチングなど複数の異なるプロセスモジュールを同一搬送コアに搭載し、柔軟なプロセス対応が可能

詳細を確認する

FlexAL(Oxford Instruments社製)

株式会社アルバック

リモートプラズマ原子層堆積(ALD)プロセスおよび熱ALDの両方を実現

詳細を確認する

Atomfab(Oxford Instruments社製)

株式会社アルバック

GaNパワーデバイス業界向けプラズマALD 量産対応ソリューション

詳細を確認する

PFSシリーズ

株式会社アルバック

SiC プロセス等の高温での処理が必要な工程にマッチングさせた活性化アニール装置です。

詳細を確認する

CC-200/400

株式会社アルバック

ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。

詳細を確認する

CME-200/400

株式会社アルバック

枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。

詳細を確認する

CMDシリーズ

株式会社アルバック

CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。

詳細を確認する
全 66 件中 1 ~ 10 件を表示中
表示件数: