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成膜装置の製品一覧

酸化膜、Polly-Si/Si、メタルなどの薄膜を形成する装置

レーザアニール装置。超低サーマルバジェット。サブマイクロ秒オーダーでウェーハ最表面のみのメルトアニールを実現。

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最先端デバイスの特性改善に大きく貢献するフラッシュランプアニール装置

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ウルトラシャロージャンクション形成を可能に

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主に半導体メモリで使用する金属配線材料の薄膜形成に対応した、クラスター式スパッタリング装置

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当社独自のスパッタリング技術によるダメージレス・メタルゲート量産用のφ300mm対応クラスター式スパッタリング装置

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CHARGER UBM PVD
Applied Materials,Inc

CHARGER UBM PVD

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Endura Cirrus RT PVD Cobalt
Applied Materials,Inc

Co薄膜形成用PVDシステム

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ENDURA AMBER PVD
Applied Materials,Inc

Cuシード層形成用PVD装置

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200mm/300mmウェーハ対応配線用量産スパッタリング装

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ENDURAR AVENIR RF PVD
Applied Materials,Inc

Endura AvenirシステムのRF PVD技術は、High-k/メタルゲートアプリケーションと同様、22nm世代以降のロジックコンタクトのシリサイド化にも適応…

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