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Atomfab(Oxford Instruments社製)

株式会社アルバック
最終更新日: 2021年12月10日

GaNパワーデバイス業界向けプラズマALD 量産対応ソリューション

1. 性能:優れたパッシベーションと誘電特性は、主要アプリケーションに必要な優れたデバイス性能を提供します。
2. リモートプラズマが再現可能なGaN界面を提供します。AtomfabRは、プラズマの正確な制御により、下地の繊細なGaN基板を保護します。
3. 速度:GaNパワーアプリケーション用に開発された長稼働時間のHVMに耐えうるプラットフォーム上で高速成膜プロセスを使用することにより、卓越したスループットを実現します。

基本情報

◎パワーとRFデバイスの保護膜へのプロセス・メリット
・エンジニアによる保証されたプロセス
・追加/新規プロセスのライフタイムプロセスサポート
・低ダメージプラズマプロセス
・低コンタミ、高品質成膜
・低パーティクル
・高スループットを可能にする短いプラズマ照射時間
・プラズマ表面前処理
◎GaN、パワーおよびRFデバイス用プラズマALDのメリット
・プラズマ前処理で界面品質を向上
・低ダメージ、均一な成膜
・0から30eVのイオンエネルギーに制御可能なリモートプラズマALD
・ALDパッシベーション(Al2O3膜によるゲート誘電膜)

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取扱企業

株式会社アルバック

業種:繊維  所在地:神奈川県 茅ヶ崎市萩園 2500

イノベーションの創出で産業と科学の発展に貢献し、 豊かな未来を創造する

アルバックグループは、真空装置、コンポーネント、材料、分析機器、カスタマーソリューションなど多様な真空技術を総合的に幅広い業界向けに提供するユニークな企業グループです。
 変革の時代をチャンスととらえ、スピード感をもって様々な分野のニーズにグループ総合力とイノベーションでお応えし、産業と科学の発展に貢献することにより豊かな未来を創造していきたいと考えております。

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