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Segul

株式会社アルバック
最終更新日: 2024年05月31日

GaNスパッタリングモジュール

「SEGul(シーガル)」はスパッタリング法によるGaNのエピタキシャル薄膜形成技術「RaSE(レイズ)法」を用いたスパッタリングモジュール。GaNデバイスの製造においては製法上の課題である「素子設計自由度」「コスト」「環境負荷」を解決する方策の一つとしてスパッタリング法によるGaNのエピタキシャル成長技術として「RaSE法」を開発した。「SEGul」では同技術を生産ラインへ対応可能な大口径型のスパッタリング装置として最適化した。

基本情報

【RaSE法の特長】
①プロセス温度 600~800℃
②ドーピングによるn型GaN成長
③使用ガス種:Ar、N2

【SEGulの特長】
①対応基板サイズ 2~8inch
②膜厚&抵抗分布±10%(8inchエリア)
③4,6角コアに対応
  開発~量産運用まで対応
④ターゲット交換による材料選択可能
⑤特ガス除害設備不要

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取扱企業

株式会社アルバック

業種:繊維  所在地:神奈川県 茅ヶ崎市萩園 2500

イノベーションの創出で産業と科学の発展に貢献し、 豊かな未来を創造する

アルバックグループは、真空装置、コンポーネント、材料、分析機器、カスタマーソリューションなど多様な真空技術を総合的に幅広い業界向けに提供するユニークな企業グループです。
 変革の時代をチャンスととらえ、スピード感をもって様々な分野のニーズにグループ総合力とイノベーションでお応えし、産業と科学の発展に貢献することにより豊かな未来を創造していきたいと考えております。

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