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EL3400

キヤノンアネルバ株式会社
最終更新日: 2022年12月09日

高密度実装向けスパッタリング装置

・様々な基板上で高密着性を実現
(対応基板例:樹脂、セラミックス、ガラス、シリコン基板)
・プロセスに応じて片面成膜と両面成膜を選択が可能

基本情報

縦型インライン式
真空アニール室
成膜処理室:片面 最大3機のプロセスユニット搭載可能
対応基板サイズ:650mm、□300mm、Φ300mm等

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取扱企業

キヤノンアネルバ株式会社

業種:産業用機械  所在地:神奈川県 川崎市麻生区栗木 2-5-1

真空技術で未来を拓く。超高真空技術のキヤノンアネルバ株式会社

キヤノンアネルバは超高真空技術を用いた高付加価値製品を提供することで、社会の発展に貢献してまいります。

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