半導体製造装置・試験/検査装置・関連部品の製品一覧

半導体の製造・試験・検査のプロセスを処理する装置、および装置で使用される部品、ユニット、モジュール

アクティブ除振ユニット【空圧制御】A type

倉敷化工株式会社

アクティブ制御とジンバルピストン機構により全周波数帯での優れた除振性能を発揮します。

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アクティブ除振ユニット【リニアモーター制御】LHKP type 制振リニアアクティブ除振台

倉敷化工株式会社

リニアモーター制御と空圧制御の両方の長所を追求した最高性能の除振台

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ウエハー3D検査シリーズ

株式会社清和光学製作所

多種3D検査装置を提案します。

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ボンディングWaferズレ検査装置

株式会社清和光学製作所

【概要】 両面パターン、貼り合せウェハのパターンズレを測定・検査を行います。 表-裏面、表-表面、表-界面等非破壊で観察できます。 また、…

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Harrier-M

Eugene Technology

ミニバッチ式ALD装置

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SDP CVD

Jusun Engineering

プラズマプロセス搭載したCVD/ALD装置

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HYETA

WONIK

高生産性ALD装置

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HYETA

WONIK

高生産性ALD装置

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GEMINI ALD

WONIK

高品質な酸化膜、窒化膜形成に対応したALD装置

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NOA ALD

WONIK

メタル形成用ALD装置

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ALTUS

Lam Research

CVD技術とALD技術を組み合わせることで、先進的なタングステンメタライゼーション用途の高度なコンフォーマル金属膜を成膜する

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STRIKER

Lam Research

高生産性ALD装置

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CENTURA ISPRINT ALD/CVD SSW

Applied Materials,Inc

金属コンタクト用高精度成膜装置

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Synergis ALD

ASM International NV

8つの枚葉式チャンバ搭載可能な高生産性装置

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Pulsar XP

ASM International NV

HKMGスタック形成対応ALD装置

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EmerALD XP

ASM International NV

HKMG量産に対応したALD装置

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CENTURA ULTIMA HDP-CVD

Applied Materials,Inc

数世代にわたって実用性が証明された、業界をリードするCVD装置

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Dragon XP8

ASM International NV

8チャンバまで搭載可能な量産対応300mmウェーハプラズマCVD

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VECTOR Family

Lam Research

高生産性と低コストを維持しながらも、幅広いプロセスアプリケーションに対応出来る柔軟性を持ったプラズマCVD装置

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Reliant Deposition

Lam Research

MEMS、パワーチップ、RFフィルタ、CMOSイメージセンサー等の新分野にも対応したプラズマCVD装置

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Centura DxZ CVD

Applied Materials,Inc

先進のMEMS、パワーデバイス、パッケージング市場での製造を支援する200mmウェーハ対応プラズマCVD装置

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真空環境におけるアウトガス分析

株式会社住化分析センター

『真空環境下で材料から発生するアウトガスを定性・定量』

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自動式クリーンオーブン

大村技研株式会社

ウエハキャリア乾燥

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真空乾燥システム

大村技研株式会社

真空蒸着装置

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