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Harrier-M

Eugene Technology
最終更新日: 2022年07月15日

ミニバッチ式ALD装置

高精度の成膜を実現
高い被覆性
ウェーハ間、ウェーハ内での高い均一性を実現
パターンローディング効果を最低限に抑える
安全性の

基本情報

LSI
PMOS TiN
- Low-k Spacer : SiOCN
- ALD SiO & SiN

NAND
- 3Charge Trap Nitride
- 3Tunnel Oxide
- 3IPD ONO
- 3High Quality 3D Gap-fill SiO/SiN
- 3Gate BM TiN/TSN

DRAM
- Low-k Spacer : SiOCN
- Top/BTM Electrode TiN

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取扱企業

Eugene Technology

業種:産業用機械 42 Chugero,Yangji Myeon,Choein Gu,yongin City,Gyeonggi Do,Kore 

韓国の大手成膜装置メーカ

韓国の成膜装置メーカ。LPCVD、プラズマCVD装置、ALD装置などの製造、販売を行っている。韓国の半導体メーカの国産装置積極導入の動きを受け、業績を伸ばしている。半導体製造装置関連売上高は2021年には前年比16%増の2492億ウォンなった。

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