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Lam Research
最終更新日: 2022年07月15日

高生産性ALD装置

メタル埋め込み、高アスペクト構造に対する精密被膜を実現している。
主な特徴
〇高速なALD サイクルやALD用部品、ソフトウェア、制御システムが実現する業界をリードする技術、欠陥の少なさ、短いプロセス時間
〇用途に応じ、広範な温度範囲において膜の電気的・機械的特性を細かく設定可能
〇複数の化学材料を扱え、成膜や同一装置上(in-situ)でのマスクトリミングなどに適用可能
〇気密性が高く無欠陥のコンフォーマルなライナ層を生成
〇選択比が高く、ウェットエッチレートが低い膜の生成
〇量産実績があるMulti-Station Static Deposition 設計により、業界最高水準の高生産性と保有コスト(CoO)の安さを実現

基本情報

主なアプリケーション
・絶縁膜埋め込み
・コンフォーマルなライナ層形成
・スペーサやマスクのパターニング
・気密封止
・エッチストップ層
・光学フィルム

お問い合わせ

取扱企業

Lam Research

業種:産業用機械 4650 Cushing Parkway,Fremont, CA 94538,United States 

革新的な製造装置で各社のシリコンロードマップ達成に貢献

デポジション(金属配線薄膜、絶縁膜、薄膜処理)、エッチング(導電性材料、絶縁膜材料、ディープエッチ)、ストリップ&クリーン(表面処理、洗浄)の製品をラインナップしている。微細加工と高い生産を両立させている。

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