半導体用語集
ふっ酸過酸化水素洗浄液
英語表記：hydrofluoric acid hydrogen peroxide mixture cleaning solution
0.5%ふっ酸に1～10％の過酸化水素を混合した洗浄液で、英語の頭文字をとってFPM液とも呼ばれる。ふっ酸単独液洗浄で問題となる液からの銅汚染を受けずに、室温の浸漬処理によりウェーハの酸化膜除去と金属汚染除去が行える。洗浄面に自然酸化膜も形成されない。
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