半導体用語集
温純水乾燥
英語表記：hot water drying
温純水をオーバフローさせている槽中に被乾燥ウェハを浸漬し、そのウェハをゆっくりと槽上方へと引き上げていく。この時固気液界面において、ウェハ表面と純水の表面張力と毛細管現象により、ウェハ表面上の純水は槽内の純水へと引かれ、ウェハ上の水分は除去される。この際ウェハの引き上げる速度は非常に重要である。この方法はウェハ表面に及ぼすストレスが小さく、装置も簡単ではあるが、ウェハ上にパターンが形成されているような場合にはあまり適切な乾燥方法ではない。
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