半導体用語集
熱酸化不動態処理 CRP処理
英語表記：thermal oxidation passivation
熱酸化によって金属の表面に不動態皮膜を形成させる技術。水分を主とするアウトガスを抑えられる。また、皮膜の組成はCr2O3が主であるため、塩素系や臭素系などのガスに対する耐腐食性に優れる。オーステナイト系およびフェライト系ステンレスが下地の金属として用いられる。
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