半導体用語集
酸化膜還元反応
英語表記：deoxidization of silicon dioxide
金属/シリコン界面に形成されたシリコン酸化膜は、反応種の拡散を阻害するため、均ーな金属シリサイドの形成が妨げられてしまう。また、シリサイド/金属界面にシリコン酸化膜が残存していると、シリサイド/金属界面の抵抗が上昇することとなる。したがって、金属シリサイド形成の際には、シリコン表面の自然酸化膜の除去が重要である。しかし、チタンのように還元性が強く、シリコン酸化膜を還元することができる金属をサリサイド材料として使用する場合には、シリサイド反応の熱処理の際に酸化膜の還元反応が起こって、金属/シリコン界面の酸化膜による影響が起こりにくくなる。一方、コバルトのようなシリコン酸化膜を還元しない金属をシリサイド材料として使用する場合には、金属膜を成膜する前にシリコン表面を清浄化する技術が一層重要である。
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