半導体用語集
高電圧露光
英語表記：high acceleration voltage exposure
一般に加速電圧50 kV以上の電子ピームを用いてレジストを露光することを高電圧露光という。高電圧露光では、ビームを細く絞ることができ、レジスト中での電子の前方散乱が小さいことから、徴細パターンの形成に適している。このため、パターンの微細化に伴って、電子ビーム露光装置の高電圧化が図られている。また、電子光学系鏡筒内で生じるクーロン反発に対しても、ビームがボケにくいことから、大面積(大電流)の一括ビーム露光に対して適用する試みもなされている。また、位置合わせ露光の際にレジスト表面から深い位置に形成された位置合わせマークを検出することも容易になる。高電圧化露光の問題は、レジスト感度の劣化、近接効果が及ぶ範囲の拡大、レジストヒーティングが大きくなることなどである。
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