半導体用語集
HF蒸気洗浄装置
英語表記：HF vapor cleaninge equipmen
共沸ふっ化水素酸又はふっ化水素とアルコールの共沸混合液から発生させた蒸気によって、Siウェーハ表面の自然酸化膜などを除去する装置。特に成膜工程の前処理に用いられる。
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