半導体用語集
イオンビームエッチング装置 イオンミリング装置
英語表記：ion beam etching system ion milling system
イオン源を正電位状態に保ち、不活性ガスを用いてプラズマを発生させ、イオン源より不活性ガスイオンを引き出しウェーハに照射しエッチングする装置。
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