半導体用語集
イオンマイクロプローブ分析法 IMMA
英語表記：ion mocro probe mass analysis method
酸素、セシウムあるいはアルゴンイオンを固体表面に照射し、スパッタされた固体表面を構成するイオンの質量を扇形磁場を用いた質量分析計によって分析し、物質を同定する方法。一次イオンを走査するタイプと太いビームを照射する写像型とがある。いずれも、試料表面の元素あるいは同位体分布は拡大像として示される。固体表面の直接分析としては最も感度が優れているため、半導体材料などの分析に多用される。
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