半導体用語集
トライオード型RIE装置
英語表記：triode reactive ion etching system
ウェーハを置く一対の電極とは別の第3電極をエッチング室内に設置し、この第3電極の電位を独立にコントロールし、エッチング特性を制御する反応性イオンエッチング装置。第3電極は浮遊電位とする場合と直流電圧または高周波電圧を印加する場合がある。
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