半導体用語集
ハイエネルギーイオン注入装置
英語表記：High Energy Ion Implantation System
イオン注入装置のなかで高エネルギー、低ドーズ領域をカバーする装置をハイエネルギー（高エネルギー）注入装置と呼ぶ。用途として、ディープウェル、ツインウェルの一部、埋め込み層、イメージセンサのフォトダイオード等の形成に用いられる。
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