半導体用語集
バイアスプラズマCVD
英語表記：bias plasma CVD
ウエーハホルダにバイアス電力を印加することによりエッチング反応を発生させ、配線の平坦化を向上させるCVD法。エッチング効果により層間絶縁膜のオーバーハングを抑制することができる。
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