半導体用語集
バッチ間注入均一性
英語表記：batch-to-batch dose uniformity
基本的にはウェーハ間注入均一性（再現性）と同じ意味。バッチ処理で注入を行う場合、各バッチ毎に評価用ウェーハを載せてウェーハ間均一性の場合と同様に各バッチ間のバラツキを求めたもの。
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