半導体用語集
フォトレジストのプロセス
英語表記：
1）ウエハ上にパターンを作るには、まず感光性樹脂（フォトレジストと呼ばれる）をウエハ上に滴下する。フォトレジストやや粘性を持っているが、ウエハ上を流れて数秒で前面に行き渡る。
2）高速に回転塗布する。0.2～0.5μm程度の厚さに塗布される。
3）フォトレジストは、光が当たるとそこが現像液に溶けやすくなる。これがポジ型フォトレジストで、逆に光の当たったところが溶けないネガ型もあり、用途により使い分けられる。
4）現像液中で、現像する。
フォトレジスト中の溶剤を高温で飛ばしたり、架橋反応を加速したりするベーキング工程もある。
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