半導体用語集
フッ素ドープSiO₂
英語表記：SiO₂ film fluorine doped silicon dioxide
フッ素を添加した酸化膜。層間絶縁膜用の低誘電率材料として、TEOSｰC₂F₆系やTEFS**等のソースによりプラズマCVD法で形成される。
**tri ethoxy fluoro silane
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