半導体用語集
マグネトロン型RIE装置
英語表記：magnetron enhanced reactive ion etching system
ウェーハと平行な磁界領域を形成する磁界発生手段を備え、ウェーハ表面に形成された直交電磁界によるマグネトロン放電を利用して高密度プラズマを発生しエッチングを行う反応性イオンエッチング装置。
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