半導体用語集
全室温洗浄プロセス
英語表記：total room temperature wet cleaning process
全工程が室温で処理できる洗浄プロセス。(1)オゾン、HF、H₂O₂、界面活性剤の低濃度しか使わない (2)薬液蒸気の発生が少なく、液管理が不要で排気量も削減できる (3)省エネ、省資源 (4)環境対策が容易などの特徴を有する。
(文 献)T. Ohmi, Total Room Temperature Wet Cleaning for Si Substrate Surface, J.Electrochem.
Soc., 143 (9)2957~2964(1996)
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