半導体用語集
円筒型プラズマエッチング装置
英語表記：barrel type plasma etching system
円筒型エッチング室の外周に電極を設け、エッチング室内のプラズマにより室内のウェーハをエッチングするプラズマエッチング装置。エッチング室内に金属製トンネルを入れ、荷電粒子のウェーハへの入射を抑制する方式もある。
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