半導体用語集
周辺露光 ウェーハ周辺露光 選択露光
英語表記：optical edge bead remover
ウェーハ周辺部に付着するレジストを除去する一手法で、現像時に周辺部レジストを除去する一手法で、現像時に周辺部レジストが除去されるようにウェーハ周辺を露光すること。薬液によるリンス除去に比べ、オリフラ部分も含めてレジストの除去が可能となる。ウェーハ周辺部のレジストを除去するのは、露光機など他の装置で、パーティクルの発生源となるのを防ぐためである。
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