半導体用語集
液体ソース供給装置
英語表記：liquid source delivery system
Si、金属加工物などの液体ソースを気化して反応室へ一定量連続して供給する装置。慣用のバブリング法、供給量を気化ガスの流量で制御する方法（ダイレクト法）と液体の流量で制御し、その後に気化する方法が開発され、反応室の圧力条件や液体ソースの蒸気圧により使い分けられる。
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