半導体用語集
熱酸化炉
英語表記：Thermal Oxidation Furnace
抵抗体に電気を流して加熱する抵抗加熱炉を熱酸化に用いる。熱酸化は、Si基板を酸化雰囲気中で900℃から1100℃に熱してSiO2膜を成長させる。炉温や酸化雰囲気（圧力、ガス）等により酸化速度や膜質が制御される。
＊酸化雰囲気（圧力）:
・常圧酸化 ・高圧酸化 ・減圧酸化
＊酸化雰囲気（ガス）:
・ウエット酸化 ・ドライ酸化 ・HCI酸化 ・パイロジェニック酸化
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