半導体用語集
TDDB試験 酸化膜経時破壊試験
英語表記:time dependent dielectric breakdown
絶縁破壊電圧以下の電圧を印加し続けると、やがて破壊する現象であるゲート酸化膜の寿命試験。
関連製品
「TDDB試験 酸化膜経時破壊試験」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「TDDB試験 酸化膜経時破壊試験」に関連する用語が存在しません。
「TDDB試験 酸化膜経時破壊試験」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。