半導体用語集
TED BED
英語表記：transient enhanced diffusion boron enhanced diffusion
シリコン基板中に導入された不純物が、熱処理をおこなった際に以上に早い拡散を起こして再分布する現象。イオン注入欠陥が原因とされるTEDと、ボロンイオンがドーズ依存で増速拡散するBEDが代表的。過度的増速拡散などとも呼ばれ、低エネルギー注入による浅い接合の形成を阻害する。
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