半導体用語集
アッシング（灰化）
英語表記：Ashing
フォトレジストをマスクしてから、エッチングやイオン注入処理を行うが、その処理の終了後に不要になったフォトレジストを、プラズマエッチングと同じ方法で除去するのがアッシングである。有機物であるフォトレジストは酸素プラズマによってアッシング（灰化）され炭酸ガス（CO2）と水蒸気（H2O）となり排気される。高濃度のイオン注入に用いたフォトレジストやエッチングでのプラズマイオンが入っているフォトレジストは完全に変質しており、酸素プラズマでは取れない場合があり、微量のフッ素を導入するなど、各社のノウハウとなっている。
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