半導体用語集

アッシング(灰化)

英語表記:Ashing

フォトレジストをマスクしてから、エッチングやイオン注入処理を行うが、その処理の終了後に不要になったフォトレジストを、プラズマエッチングと同じ方法で除去するのがアッシングである。有機物であるフォトレジストは酸素プラズマによってアッシング(灰化)され炭酸ガス(CO2)と水蒸気(H2O)となり排気される。高濃度のイオン注入に用いたフォトレジストやエッチングでのプラズマイオンが入っているフォトレジストは完全に変質しており、酸素プラズマでは取れない場合があり、微量のフッ素を導入するなど、各社のノウハウとなっている。


関連製品

「アッシング(灰化)」に関連する製品が存在しません。

関連用語

関連特集

「アッシング(灰化)」に関連する用語が存在しません。




「アッシング(灰化)」に関連する特集が存在しません。




会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。