半導体用語集
イオンビーム スパッタリング装置
英語表記：ion beam sputtering system
高真空雰囲気内におかれたターゲットに、独立したイオン源から高エネルギーに加速したイオンビームを引き出して衝撃させ、10－2Pa以下の低いガス圧で成膜を行うスパッタリング装置。
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