半導体用語集
ウェーハ内注入均一性
英語表記：dose uniformity
イオン注入されたウェーハが、どのくらい均一にウェーハ面内に不純物導入されたかを示す指針。その評価方法として、通常アニール後4探針法によりウェーハ面内数十点の面抵抗率（シート抵抗）分布測定を行い、統計処理をしてばらつきを求める。
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