半導体用語集
ウェーハ間注入均一性
英語表記：wafer-to-wafer uniformity
同一注入条件で数枚のウェーハにイオン注入を行い、それぞれのウェーハの平均面抵抗率を算出し、それをもとに各ウェーハ間のばらつきを求めたもの。再現性とも呼ばれ、ウェーハ内注入均一性とともに重要な評価項目といえる。
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