半導体用語集
スパッタガン スパッタリング装置
英語表記：sputter-gun sputtering system
円錐台状の面を持つターゲットに対し、その背後に電気回路を持ち、ターゲット表面に平行な磁界を発生させる構造のカソードを持つマグネトロン型スパッタリング装置。ターゲット形状に特徴があり、ターゲットの使用効率においてすぐれているとされている。
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