半導体用語集
スパッタリング装置 スパッタ装置
英語表記：sputtering system
真空中に放電用ガスを導入し、電極間に電圧を印加するとグロー放電が発生する。この時プラズマ中の正のイオンが陰極上のターゲット表面に衝突し、ターゲット電子をはじき出す。このスパッタ現象を利用し、薄膜をウェーハ上に形成する薄膜装置。放電用ガスとしてはArなどが使われる。
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