半導体用語集
フォトエッチング
英語表記：photo etching
マスクを用いて，基板をウェットエッチングあるいはドライエッチングにより加工する場合，基板に感光用フォトレジストをスピン塗布し，フォトレジスト薄膜を基板上に形成した後，露光，現像過程を経て基板上のエッチングマスクとなるフォトレジストパターンを形成する。この工程は，(1)微細加工を行いたい薄膜をつけた基板を高速回転しながらフォトレジストを滴下すると試料上にμmオーダの薄い均ーな薄膜ができる。(2)これにマスクを重ねて光露光（通常紫外線か遠紫外線）する。(3)感光したフォトレジストを現像工程により溶かし去りフォトレジストのパターン形成を行う。(4)形成されたフォトレジストパターンをエッチングマスクとしてウェットかドライエッチングにより，被加工薄膜基板へパターン転写を行う。(5)最後の，フォトレジストを酸素プラズマによるアッシングにより，除去する。このようにして，フォトレジストを用いてマスクパターンが被加工薄膜基板へパターン転写される。これらの一連の工程をフォトエッチングという。
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